OE750光電直讀光譜儀實(shí)現(xiàn)高分辨率和寬動(dòng)態(tài)范圍要?dú)w功于采用了*CMOS探測(cè)器技術(shù)的***新光學(xué)理念。其中有四項(xiàng)**正處于申請(qǐng)狀態(tài)。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長(zhǎng)范圍；這意味著該分析儀能測(cè)量金屬中ppm級(jí)別的所有元素。這對(duì)于滿足當(dāng)今嚴(yán)格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要，該分析儀可以滿足新的ASTM E415標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗(yàn)方法的要求?！?/span>

OE750光電直讀光譜儀是鋁鑄件的理想光譜儀，因?yàn)樗梢詼y(cè)定亞共晶和過(guò)共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質(zhì)和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以優(yōu)化結(jié)構(gòu)改造。**性光學(xué)設(shè)計(jì)能實(shí)現(xiàn)更短的啟動(dòng)時(shí)間，因?yàn)楣鈱W(xué)系統(tǒng)的體積相對(duì)較小。這有助于那些需要在多點(diǎn)測(cè)量驗(yàn)證熔體質(zhì)量的工廠實(shí)現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學(xué)設(shè)計(jì)之外，OE750光電直讀光譜儀還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個(gè)新的密封火花臺(tái)，具有優(yōu)化層流設(shè)計(jì)，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運(yùn)行時(shí)間。這使得OE750具有高可靠性和低運(yùn)行成本。

新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號(hào)數(shù)據(jù)庫(kù)，該數(shù)據(jù)庫(kù)包含來(lái)自69個(gè)國(guó)家的339,000多種材料的1,200多萬(wàn)條記錄和標(biāo)準(zhǔn)，減少了人工查閱牌號(hào)目錄的時(shí)間和潛在錯(cuò)誤?？蛇x的爐料校正軟件會(huì)自動(dòng)計(jì)算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規(guī)范。